特許
J-GLOBAL ID：200903031015801989
露光用マスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-278659
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134396
出願日： 1993年11月08日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】位相シフタと半透光性膜とを組み合わせた露光用マスク及びその製造方法に関し、容易に作成することができ、また、チップ領域の境界で生じていた多重露光による欠陥を抑止することが可能なハーフトーンマスクを提供する。【構成】透明基板11上の遮光領域に位相シフタを兼ねた半透光性膜としてのタンタル酸化膜14が形成されたことを含む。
請求項（抜粋）：
透明基板上の遮光領域に位相シフタを兼ねた半透光性膜としてのタンタル酸化膜が形成された露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 528
