特許
J-GLOBAL ID：200903031019484996

荷電粒子ビーム装置

発明者：
小濱 禎晃

小濱 禎晃 について

, 
大久保 至晴

大久保 至晴 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 古谷 史旺 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-068027
公開番号（公開出願番号）：特開2001-256915
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 試料へのドーズ量を減らすことなくチャージアップを回避できる荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】 試料15に対して荷電粒子ビームを照射する照射手段21,23と、荷電粒子ビームの照射によって試料15から発生する二次ビームの二次元像を撮像する撮像手段43,44とを備える。照射手段21,23は、荷電粒子ビームの断面を整形することにより、撮像手段43,44の撮像視野内の一部領域に荷電粒子ビームを導く手段である。撮像視野に対する一部領域の位置および試料の位置の少なくとも一方を移動させる移動手段24,28をさらに備える。
請求項（抜粋）：
試料に対して荷電粒子ビームを照射する照射手段と、前記荷電粒子ビームの照射によって前記試料から発生する二次ビームの二次元像を撮像する撮像手段とを備えた荷電粒子ビーム装置であって、前記照射手段は、前記荷電粒子ビームの断面を整形することにより、前記撮像手段の撮像視野内の一部領域に前記荷電粒子ビームを導く手段であり、前記撮像視野に対する前記一部領域の位置および前記試料の位置の少なくとも一方を移動させる移動手段をさらに備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
IPC (7件)：
H01J 37/29 ,  G01N 23/20 ,  G01N 23/225 ,  G03F 1/08 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/22 502
FI (7件)：
H01J 37/29 ,  G01N 23/20 ,  G01N 23/225 ,  G03F 1/08 S ,  H01J 37/147 B ,  H01J 37/20 D ,  H01J 37/22 502 B
Fターム (30件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001DA09 ,  2G001EA05 ,  2G001FA02 ,  2G001GA03 ,  2G001GA04 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001GA11 ,  2G001HA12 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001JA07 ,  2G001JA11 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA07 ,  2G001PA11 ,  2G001SA01 ,  2G001SA10 ,  2H095BD03 ,  2H095BD04 ,  2H095BD14 ,  5C001AA03 ,  5C001BB07 ,  5C001CC04 ,  5C033FF03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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