特許
J-GLOBAL ID：200903031026526076
ホトマスクおよび位相差測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-302539
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159976
出願日： 1993年12月02日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】位相シフトマスクのシフタ膜厚の変動によって起こるパターン転写不良を防止する。【構成】位相シフトマスクの一部に、位相差測定用パターンを配置する。このパターンの寸法差から、位相ずれ量の校正図を用いて位相差を求める。
請求項（抜粋）：
投影露光に使用するホトマスクの一部に、素子パターン以外の位相差測定用のパターン群を配置したことを特徴とするホトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
