特許
J-GLOBAL ID：200903031028762451
磁気駆動プラズマ反応装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-091729
公開番号（公開出願番号）：特開平5-266991
出願日： 1992年03月16日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ材料プロセス用プラズマ発生装置として、安定性が高く、エネルギー密度が空間的に斬変的に変化するプラズマを発生する方法を提供すること、及びこのプラズマを用いた、優れた粉体球状化法、溶射法、その他プラズマ処理方法を提供することにある。【構成】 プラズマアークを利用して加熱や溶融、蒸発或いは化学分解、合成反応等を行わせる装置に於て、熱電子放出型陰極を有するプラズマトーチと容易に交換可能な中空円筒形の陽極とを有し、両電極の間に移行型プラズマアークを発生させる、プラズマアーク発生部分と、発生したアークの陽極点を該中空円筒面上に回転運動をさせるためのアークの磁気駆動部分とで構成され、トーチ移動機構、反応処理物質吹き込み口の移動機構を有し、プラズマ形状と吹き込み位置を高い自由度で設定できることを特徴とするプラズマ反応装置。
請求項（抜粋）：
熱電子放出型陰極を有するプラズマトーチと、該トーチノズル出口方向近傍の外部に位置させた中空円筒状の陽極と、前記両電極の間に発生したプラズマアークの陽極点を前記中空円筒陽極内面上で回転運動させる磁界を発生させるためのコイルと、前記トーチと前記陽極間或いは前記陽極下流の任意のプラズマ内の位置に反応処理物質を導入する機構とから構成されることを特徴とするプラズマ反応装置。
IPC (3件)：
H05H 1/40
, C23C 4/00
, C23C 14/34
