特許

J-GLOBAL ID：200903031032522066

半導体ウェーハ処理装置にウェーハを保持する静電チャック内蔵カソード組立体

発明者： ホースマン ギルバート ,  スブラマーニ アナンサ ,  サッティットプンウェイチャ ピーター ,  グリスティ レイモンド ,  スティムソン ブラッドレイ オー ,  ルー チア オウ ビル ,  リンガー ローレンス エイ ,  シュガーマン マイケル エヌ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-572901
公開番号（公開出願番号）：特表2002-526915
出願日： 1999年09月22日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：

【要約】台座及び取り外し可能サセプタを持つカソード組立体が開示される。傾斜バネを含む様々な接触組立体は、台座及び取り外し可能サセプタ間を電気的に接続するために利用される。該傾斜バネは、一方向に傾けられた、ドーナツ形を形成するように端と端とが結合されたコイルを持つ。そのようなバネは、バネの巻回を通じて多くの並列自動装填式電気接続を作り出す。巻回は、電線のように働いてRF電気エネルギの伝達を確実にする。本発明の傾斜バネ接触は、台座及びチャック間の平坦な接触を可能にする。

請求項（抜粋）：

台座と、 前記台座の上方に配置され、上方に基板を支持する複数のパッドを包含する表面及び前記表面上に配置された少なくとも1つの電極を持つ、取り外し可能セラミックサセプタと、を含むことを特徴とする、カソード組立体。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/31 C

Fターム (18件)：

5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA08 ,  5F031HA09 ,  5F031HA10 ,  5F031HA17 ,  5F031HA18 ,  5F031HA39 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA31 ,  5F031NA04 ,  5F031PA07 ,  5F045AA08 ,  5F045BB10 ,  5F045DP04 ,  5F045EM05