特許
J-GLOBAL ID：200903031033924087
プラズマディスプレイパネル用背面板への蛍光体パターンの形成方法、およびプラズマディスプレイパネル用背面板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-103002
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294131
出願日： 1999年04月09日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネル用背面板への蛍光体層の形成をフォトリソ法により行う場合の蛍光体パターンの形成方法であって、蛍光体層を障壁間の底部の誘電体層、障壁の側壁へ密着性良く形成する方法を提供する。【解決手段】 蛍光体パターン形成用組成物を、背面板の障壁形成面側に塗布し、乾燥して、感光性の蛍光体層を形成した後、所定形状のマスクを介して、蛍光体層を露光し、現像することにより、所望の形状に蛍光体パターンを形成する、フォトリソ法を用いたプラズマディスプレイパネル用背面板への蛍光体パターンの形成方法であって、焼成して障壁が形成された、プラズマディスプレイパネル用背面板上に、サンドブラスト処理を行い、誘電体層、障壁の側壁を粗面化した後、フォトリソ法による蛍光体パターンの形成を行う。
請求項（抜粋）：
蛍光体パターン形成用組成物を、背面板の障壁形成面側に塗布し、乾燥して、感光性の蛍光体層を形成した後、所定形状のマスクを介して、蛍光体層を露光し、現像することにより、所望の形状に蛍光体パターンを形成する、フォトリソ法を用いたプラズマディスプレイパネル用背面板への蛍光体パターンの形成方法であって、焼成して障壁が形成された、プラズマディスプレイパネル用背面板上に、サンドブラスト処理を行い、誘電体層面、障壁の側壁を粗面化した後、フォトリソ法による蛍光体パターンの形成を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板への蛍光体パターンの形成方法。
IPC (3件)：
H01J 9/227
, H01J 11/00
, H01J 11/02
H01J 9/227 E
, H01J 11/00 K
, H01J 11/02 B
5C028FF16
, 5C028HH14
, 5C040FA01
, 5C040GA03
, 5C040GB02
, 5C040GD01
, 5C040GF12
, 5C040GG09
, 5C040JA12
, 5C040JA13
, 5C040JA15
, 5C040MA23
, 5C040MA24
