特許
J-GLOBAL ID:200903031040211207

連続鋳造用鋳型への溶射方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋沢 政光 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-243433
公開番号(公開出願番号):特開平8-081750
出願日: 1994年09月13日
公開日(公表日): 1996年03月26日
要約:
【要約】【目的】 溶射後にフュージング処理しなくても密着性が高く、皮膜が剥離しない鋳型、特に長辺への溶射方法を提供する。【構成】 銅または銅合金からなる鋳型表面の一部または全部に厚み0.1〜2mmのNi電気メッキを形成した後、メッキ表面に粗度Ra=2〜4のブラスト処理を行う。次いで厚み0.1〜0.6mmのNi基自溶性合金を溶射する。Ni基自溶性合金の成分は、Ni=60〜80%、Cr=8〜33%、B=1.5〜5%、Si=2〜6%、C=0.3〜1.5%、Fe=2〜4%および残部不純物とする。溶射は、酸素/灯油を利用してフレーム速度1300〜2300m/sでフレーム溶射する。溶射後のNi基自溶性合金皮膜表面は、Rmax=1.6〜6.3Sに仕上げる。
請求項(抜粋):
銅または銅合金からなる鋳型表面の一部または全部に厚み0.1〜2mmのNi電気メッキを形成した後、前記Ni電気メッキ表面に粗度Ra=2〜4のブラスト処理を行い、次いで厚み0.1〜0.6mmのNi基自溶性合金を溶射することを特徴とする連続鋳造用鋳型への溶射方法。
IPC (4件):
C23C 4/02 ,  B22D 11/04 312 ,  C23C 4/06 ,  C23C 28/02

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