特許
J-GLOBAL ID:200903031042629101
粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート精製方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-222664
公開番号(公開出願番号):特開2001-048836
出願日: 1999年08月05日
公開日(公表日): 2001年02月20日
要約:
【要約】【課題】 粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートから高品質のビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを得るための蒸発または蒸留精製方法を提供する。【解決手段】 (i)Na、Mg、Ca、Fe、Co、Zn、Ti、Sn、Sb、GeおよびPよりなるカチオンおよび(ii)ハロゲン、NO2、NO3、PO4およびSO4よりなるアニオンの合計含有量が50ppm以下でありかつエチレングリコールの含有量が10重量%を超えて存在する粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート含有混合物を、(1)初期蒸発または蒸留して低沸点化合物をエチレングリコールと共に留去せしめて、蒸発または蒸留残渣を得、次いで(2)その蒸発または蒸留残渣を、減圧下蒸発または蒸留することを特徴とする、粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートの精製方法。
請求項(抜粋):
(i)Na、Mg、Ca、Fe、Co、Zn、Ti、Sn、Sb、GeおよびPよりなるカチオンおよび(ii)ハロゲン、NO2、NO3、PO4およびSO4よりなるアニオンの合計含有量が50ppm以下でありかつエチレングリコールの含有量が10重量%を超えて存在する粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート含有混合物を、(1)初期蒸発または蒸留してビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートよりも低沸点の化合物をエチレングリコールと共に留去せしめて粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート含有蒸発または蒸留残渣を得、次いで(2)その蒸発または蒸留残渣を、減圧蒸発または蒸留せしめて、精製ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを分離せしめることを特徴とする粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートの精製方法。
IPC (3件):
C07C 67/54
, C07C 69/82
, C08G 63/19
FI (3件):
C07C 67/54
, C07C 69/82 B
, C08G 63/19
Fターム (15件):
4H006AA02
, 4H006AC91
, 4H006AD11
, 4H006BC51
, 4H006BC52
, 4H006BJ50
, 4H006BN10
, 4J029AA03
, 4J029AB07
, 4J029AC01
, 4J029AE02
, 4J029AE03
, 4J029HA01
, 4J029HD04
, 4J029KA03
引用特許:
出願人引用 (5件)
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特公昭45-041215
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特公昭49-015255
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特開昭49-036646
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審査官引用 (3件)
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特公昭45-041215
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特公昭49-015255
-
特開昭49-036646
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