特許

J-GLOBAL ID：200903031049747061

エキシマレーザー用ミラー

発明者： 白井 健
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-321421
公開番号（公開出願番号）：特開平10-160915
出願日： 1996年12月02日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 λ=160〜300nmの任意の波長域において広帯域で高反射率を示し、かつ広い入射角度に対して高反射率を示す、密着性、耐レーザー性の良好なエキシマレーザー用ミラーを提供する。【解決手段】 少なくとも、基板上に、金属膜、高屈折率層及び低屈折率層からなる交互層を順次積層してなり、前記交互層の膜構成が基板側からH1(L1H1)a1/L13/H2(L2H2)a2/.../La-13/Hn(LnHn)anであり、かつ光学的膜厚の関係が、X1>X2>・・・>Xn、Y1>Y2>・・・>Ynー1であることを特徴とする。但し、H1、H2・・・Hnは各高屈折率層群、L1、L2・・・Lnは各低屈折率層群、L1’L2’・・・Ln-1’は各接合層、a1、a2、・・・anは交互層の繰り返し係数、X1、X2・・・Xnは群内の各層の光学的膜厚、Y1、Y2・・・Ynー1は各接合層の光学的膜厚。

請求項（抜粋）：

少なくとも、基板上に、金属膜、高屈折率層及び低屈折率層からなる交互層を順次積層してなるエキシマレーザー用ミラーであって、前記交互層の膜構成が基板側から【数1】であり、かつ光学的膜厚の関係がX1>X2>・・・>XnY1>Y2>・・・>Ynー1であることを特徴とするエキシマレーザー用ミラー。但し、H1、H2・・・Hnは第1群、第2群・・・第n群の高屈折率層、L1、L2・・・Lnは第1群、第2群・・・第n群の低屈折率層、L1’L2’・・・Ln-1’は第1、第2・・・第n-1の接合層(低屈折率層)、a1、a2、・・・anは交互層の繰り返し係数、X1、X2・・・Xnは第1群、第2群・・・第n群内の各層の光学的膜厚(同一群内の各層の光学的膜厚は同一である)Y1、Y2・・・Ynー1は第1接合層、第2接合層・・・第n-1接合層の光学的膜厚

IPC (3件)：

G02B 5/08 ,  H01S 3/034 ,  H01S 3/225

FI (3件)：

G02B 5/08 A ,  H01S 3/03 G ,  H01S 3/223 E