特許

J-GLOBAL ID：200903031051406689

プラズマ処理容器内部材の製造方法、およびそれにより製造されたプラズマ処理容器内部材

発明者： 小笠原 正宏 ,  宮川 正章 ,  中山 博之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-086349
公開番号（公開出願番号）：特開2004-292887
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】表面に陽極酸化被膜が形成されたアルミニウム部品から発生する初期パーティクルを抑制することができるアルミニウムの陽極酸化被膜の形成方法およびアルミニウム部材を提供する。【解決手段】被処理体にプラズマ処理が施されるプラズマ処理容器内に配設されるプラズマ処理容器内部材の製造方法は、アルミニウム基材の表面に陽極酸化被膜を形成する陽極酸化被膜形成工程(S3)と、前記陽極酸化被膜に形成されたポアを封孔する封孔処理工程(S4)と、前記封孔処理工程を行なった後、前記陽極酸化被膜を加熱する加熱処理工程(S5)とを有する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

被処理体にプラズマ処理が施されるプラズマ処理容器内に配設されるプラズマ処理容器内部材の製造方法であって、 アルミニウム基材の表面に陽極酸化被膜を形成する陽極酸化被膜形成工程と、 前記陽極酸化被膜に形成されたポアを封孔する封孔処理工程と、 前記封孔処理工程を行なった後、前記陽極酸化被膜を加熱する加熱処理工程とを有することを特徴とする、プラズマ処理容器内部材の製造方法。

IPC (5件)：

C25D11/04 ,  C23C16/44 ,  C23F4/00 ,  C25D11/18 ,  H01L21/3065

FI (6件)：

C25D11/04 E ,  C23C16/44 B ,  C23F4/00 A ,  C25D11/18 301C ,  C25D11/18 313 ,  H01L21/302 101G

Fターム (20件)：

4K030FA01 ,  4K030JA10 ,  4K030KA46 ,  4K057DA01 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DE01 ,  4K057DE04 ,  4K057DE06 ,  4K057DE09 ,  4K057DM05 ,  4K057DM14 ,  4K057DN01 ,  4K057DN02 ,  5F004AA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004DA00 ,  5F004DA17