露光照明装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口邦夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-304882
公開番号（公開出願番号）：特開平9-146279
出願日： 1995年11月22日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】半導体装置や液晶表示装置などの電子デバイスの製造工程においてマスク上に形成された回路などのパターンを基板上に転写する際に使用される露光装置の光源として用いられる露光照明装置に関し、装置の小型化、保守・維持の簡易化を実現する共に、露光照明光の均一性を高める。【解決手段】固体レーザが発振出射する光ビームを波長変換した高調波ビームを出射する光源1と、この光源1から出射された光ビームを光軸を中心に回転させるビーム回転手段20とを備える。光源1に半導体レーザで励起されたYAGレーザが発振出射するレーザ光を波長変換したn次高調波(n≧4、5、・・・)を用いることにより、装置の小型化、保守・維持の簡易化が実現する。複数個のダブプリズム3a,3b,3cを多段に構成して、あるいはダブプリズム自体を回転させて光束回転部20Aを構成することにより、露光照明光の均一性が高まる。

請求項（抜粋）：

半導体装置や液晶表示装置などの電子デバイスの製造工程においてマスク上に形成された回路などのパターンを基板上に露光する際に使用される露光装置などの照明用光源装置として用いられる露光照明装置であって、固体レーザが発振出射する光ビームを波長変換した高調波ビームを出射する光源と、該光源から出射された光ビームを光軸を中心に回転させるビーム回転手段と、を備えたことを特徴とする露光照明装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 527

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