特許
J-GLOBAL ID：200903031055792567
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-275804
公開番号（公開出願番号）：特開2004-111857
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】基板表面を安定して確実に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】吐出ノズル41および吸引ノズル42はノズルアーム43の先端部近傍に固設されている。純水によるリンス処理後の基板Wを回転させつつ、ノズルアーム43を軌跡Rに沿って回動させるとともに、吐出ノズル41から窒素ガスを吐出する。同時に吸引ノズル42からは周辺雰囲気の吸引を行う。吐出ノズル41からの窒素ガス吹きつけによって液盛りされた目視可能な水分を緩やかに基板W上から排除し、その水分が排除された基板W上の領域と同一の領域に接する雰囲気を吸引ノズル42から吸引することによって微細なパターン等に極微量に残留した水分をも完全に取り除き、当該領域を完全に乾燥させることができる。その結果、基板Wの表面を安定して確実に乾燥させることができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
純水による洗浄処理が終了した基板を乾燥させる基板処理装置であって、
基板を保持して略水平面内にて回転させる回転手段と、
前記回転手段に保持された基板の表面に純水を供給する純水供給手段と、
前記純水供給手段によって純水が液盛りされた基板の表面に気体を吹き付ける第1ノズルと、
前記基板の表面に接する雰囲気を吸引する第2ノズルと、
前記回転手段によって回転される基板の表面に液盛りされた純水に前記第1ノズルから気体を吹き付けることによって前記基板の端縁部から水分を排除するように前記第1ノズルを略水平面内にて移動させる第1ノズル移動手段と、
前記第1ノズルによって気体が吹き付けられて水分が排除された前記基板上の領域と同一の領域に接する雰囲気を前記第2ノズルにより吸引して当該領域を乾燥させるように前記第2ノズルを略水平面内にて移動させる第2ノズル移動手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/304 651L
, H01L21/304 651A
, B08B3/02 B
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB34
, 3B201AB42
, 3B201BB24
, 3B201BB42
, 3B201BB72
, 3B201BB92
, 3B201BB93
, 3B201BB96
, 3B201CC01
, 3B201CC12
, 3B201CD22
