特許
J-GLOBAL ID:200903031060164566

触媒への反応ガスの供給方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 潮谷 奈津夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-220004
公開番号(公開出願番号):特開平10-057766
出願日: 1996年08月21日
公開日(公表日): 1998年03月03日
要約:
【要約】【課題】 有害物質を含有する排ガスの無害化。脱硝効率の向上、触媒寿命の延長。【解決手段】 反応ガス1を触媒7と反応させて脱硝処理を行う。触媒7に反応ガス1を供給するに当たり、還元ガス2を希釈空気5により希釈し、低周波発生機構6により10〜50Hz且つ1〜20kPaの周波数および音圧で振動させ、ノズル4から振動を付加した還元ガス2を反応ガス1に噴射し、反応ガス1と還元ガス2とを混合する。噴射によりガス混合効率が向上し、振動により、触媒反応が促進され、触媒毒により被覆された触媒が再生され、触媒寿命が延長する。
請求項(抜粋):
触媒に反応ガスを供給し、前記反応ガスと前記触媒とを反応させて前記反応ガスの脱硝処理を行う触媒への反応ガスの供給方法において、前記反応ガスを振動させるための振動機構を設け、触媒に前記反応ガスを供給すると共に、前記反応ガスを10〜50Hz且つ1〜20kPaの周波数および音圧で振動させて、触媒毒により被覆された前記触媒を再生することを特徴とする触媒への反応ガスの供給方法。
IPC (3件):
B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ,  B01J 38/04
FI (3件):
B01D 53/36 101 Z ,  B01J 38/04 B ,  B01D 53/36 K

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