特許
J-GLOBAL ID：200903031068282525
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
茂見 穰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-049647
公開番号（公開出願番号）：特開平10-233008
出願日： 1997年02月18日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：
【要約】【課題】 上部磁極のポール部を精度よく形成できるようにする。【解決手段】 基板12の上に下部磁極14、ギャップ層16、ギャップ深さ位置規定絶縁層18、絶縁層20で挾まれたコイル層22、上部磁極24を、この順序で積層形成する構造の薄膜磁気ヘッドを製造する方法である。下部磁極、ギャップ層、ギャップ深さ位置規定絶縁層を形成した後、上部磁極のポール部24a及びその近傍部24cを形成し、その後、絶縁層で挾まれた必要段数のコイル層を形成し、その上に上部磁極のヨーク部24bを前記上部磁極のポール近傍部に重なって連続するように設ける。上部磁極のポール部及びその近傍部は、ギャップ深さ位置規定絶縁層の先端エイペックス部分を覆うように形成するのが好ましい。
請求項（抜粋）：
基板の上に下部磁極、ギャップ層、ギャップ深さ位置規定絶縁層、絶縁層で挾まれたコイル層、上部磁極を、この順序で積層形成する構造の薄膜磁気ヘッドを製造する方法において、下部磁極、ギャップ層、ギャップ深さ位置規定絶縁層を形成した後、上部磁極のポール部及びその近傍部を形成し、その後、絶縁層で挾まれた必要段数のコイル層を形成し、その上に上部磁極のヨーク部を前記上部磁極のポール近傍部に重なって連続するように設けることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
FI (2件)：
G11B 5/31 C
, G11B 5/31 D
