特許

J-GLOBAL ID：200903031082300005

色素増感型太陽電池における負極の製造法

発明者： 山本 直嗣
出願人/特許権者： 東洋製罐株式会社
代理人 (2件)： 小野 尚純 ,  奥貫 佐知子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-030543
公開番号（公開出願番号）：特開2005-222838
出願日： 2004年02月06日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

【課題】 汎用されている発振周波数が2.45GHzのマイクロ波の照射による加熱によって、透明樹脂製電極上に塗布した半導体多孔質層の焼成、形成が可能であり、加熱焼成時の透明樹脂製電極の変形を有効に抑制できる色素増感型太陽電池における負極の製造法を提供する。【解決手段】 透明樹脂フィルム上に透明導電層を備えた透明樹脂製電極基板を用意し、該透明樹脂製電極の透明導電層上に、金属酸化物半導体が有機溶媒中に分散された半導体ペーストを塗布して半導体コーティング層を形成し、該半導体コーティング層を焼き付けて半導体多孔質層を形成する色素増感型太陽電池における負極の製造法において、半導体コーティング層の焼付けを、前記半導体コーティング層が表面側となるように、前記透明樹脂製電極をサンプルステージ上に形成された液膜上に載置した状態で2.45GHzのマイクロ波を照射しての加熱により行う。【選択図】 図2。

請求項（抜粋）：

透明樹脂フィルム上に透明導電層を備えた透明樹脂製電極を用意し、該透明樹脂製電極の透明導電層上に、金属酸化物半導体が有機溶媒中に分散された半導体ペーストを塗布して半導体コーティング層を形成し、該半導体コーティング層を焼き付けて半導体多孔質層を形成するとともに、焼付け前の半導体コーティング層或いは焼付け後の半導体多孔質層に色素溶液を接触させての吸着処理を行う色素増感型太陽電池における負極の製造法において、 半導体コーティング層の焼付けを、前記半導体コーティング層が表面側となるように、前記透明樹脂製電極をサンプルステージ上に形成された液膜上に載置した状態でマイクロ波を照射しての加熱により行うことを特徴とする製造法。

IPC (2件)：

H01M14/00 ,  H01L31/04

FI (2件)：

H01M14/00 P ,  H01L31/04 Z

Fターム (22件)：

5F051AA14 ,  5F051BA11 ,  5F051BA14 ,  5F051CB13 ,  5F051CB27 ,  5F051CB29 ,  5F051FA01 ,  5F051FA04 ,  5F051FA10 ,  5F051FA17 ,  5F051GA03 ,  5H032AA06 ,  5H032AS09 ,  5H032AS16 ,  5H032BB02 ,  5H032BB05 ,  5H032BB10 ,  5H032CC11 ,  5H032EE02 ,  5H032EE04 ,  5H032EE18 ,  5H032HH00

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2664194号
  
• 特公平8-15097号
  

審査官引用 (1件)

• 光電変換素子および光電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-177211   出願人：富士写真フイルム株式会社