特許
J-GLOBAL ID：200903031092292256
回転式基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-300187
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148218
出願日： 1995年11月17日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】 カップ周辺を汚すことなく、しかも基板表面を汚染することもなく基板の処理を行うことができる回転式基板処理装置を提供する。【解決手段】 円筒状の飛散防止部材11がカップ12の側壁部分12aの外周の鉛直上方に設けられており、開口部12hから飛散したミストは飛散防止部材11により捕らえられ、カップ12の周辺への飛散が防止される。また、カップ12の上面の開口部12hから飛散防止部材11までは距離DOだけ隔たっているので、飛散防止部材11で跳ね返ったミストが基板10側に戻るのが防止される。さらに飛散防止部材11の下部の四方に切り欠き部11hが設けられており、カップ12と協同して通気孔として機能するので、飛散防止部材11内で発生する汚染された気流がこの通気孔を介して外部に排気される。
請求項（抜粋）：
基板を回転させてその表面に処理液を供給することにより当該基板に所定の処理を施す回転式基板処理装置において、上面の一部に開口部を備え、基板の回転に伴って基板表面から振り切られる処理液を受けるカップと、前記カップの外周のほぼ鉛直上方に配置され、前記開口部から前記カップの外周側に飛散する処理液を受ける飛散防止手段と、を備え、前記飛散防止手段に通気孔を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 502
, H01L 21/304 341
H01L 21/30 564 C
, G03F 7/16 502
, H01L 21/304 341 M
