特許

J-GLOBAL ID：200903031105121456

有機オニウム塩の製造方法

発明者： 宇恵 誠 ,  竹原 雅裕 ,  大浦 靖
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-128520
公開番号（公開出願番号）：特開平11-322760
出願日： 1998年05月12日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【課題】 高純度の有機オニウムQMFn 塩を再結晶の操作なしに高収率で得る方法の提供。【解決手段】 一般式NH4 MFn (Mは周期表4〜16族の元素を表し、nは4族のとき3又は4、5族のとき4、6族のとき4、6又は7、7族のとき3又は5、8族のとき3又は4、9族のとき3又は5、10族のとき3、11族のとき3、12族のとき3、13族のとき4又は6、14族のとき5、15族のとき4又は6、また、16族のとき5である)で表される塩と一般式QRCO3 (Qは有機オニウムを表し、Rは水素原子又は炭素数10以下のアルキル基を表す)で表される塩とを溶液中で反応させることを特徴とする一般式QMFn (Q及びMは前記式と同義である)で表される有機オニウム塩の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式NH4 MFn (Mは周期表4〜16族の元素を表し、nは4族のとき3又は4、5族のとき4、6族のとき4、6又は7、7族のとき3又は5、8族のとき3又は4、9族のとき3又は5、10族のとき3、11族のとき3、12族のとき3、13族のとき4又は6、14族のとき5、15族のとき4又は6、また、16族のとき5である)で表される塩と一般式QRCO3(Qは有機オニウムを表し、Rは水素原子又は炭素数10以下のアルキル基を表す)で表される塩とを溶液中で反応させることを特徴とする一般式QMFn (Q及びMは前記式と同義である)で表される有機オニウム塩の製造方法。

IPC (4件)：

C07F 5/02 ,  C07F 9/14 ,  C07F 9/68 ,  C07F 9/90

FI (4件)：

C07F 5/02 B ,  C07F 9/14 ,  C07F 9/68 ,  C07F 9/90

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平4-210673