特許
J-GLOBAL ID：200903031107903362
成膜装置中の有害物除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-135653
公開番号（公開出願番号）：特開平5-308054
出願日： 1992年04月30日
公開日（公表日）： 1993年11月19日
要約：
【要約】【目的】 成膜装置内に付着した有害物を簡便な方法で除去する。【構成】 成膜装置のチャンバ内に付着した有害物であるセレン、テルルなどを水蒸気中で紫外線照射することにより水素化し、この水素化物を水に溶解させる。
請求項（抜粋）：
成膜装置中に残存する有害物の除去方法であって、成膜装置中に水蒸気を導入し、紫外光を照射して有害物を水素化した後、該水素化物を水に溶解させることを特徴とする成膜装置中の有害物除去方法。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, H01L 21/22
, H01L 21/31
