特許

J-GLOBAL ID：200903031128885739

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  藤島 浩晃
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-191559
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305444
出願日： 1998年07月07日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 樹脂と酸発生剤を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、基板への接着性や耐ドライエッチング性に優れ、また解像度や感度などの性能が良好なものを提供する。【解決手段】 酸発生剤とともに、下式(I)及び(II)、場合によりさらに下式(III) で示される各重合単位を含む樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。R1 は水素又はメチルを表し、R2 はアルキルを表し、R3 及びR4 は互いに独立に、水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシル、シアノ又は置換されてもよいアルコキシカルボニルを表すか、又は両者が一緒になってカルボン酸無水物残基を形成する。ここで用いる樹脂は、上記各式に相当するモノマーの共重合により製造できる。この樹脂は、別の重合単位を含むこともできる。

請求項（抜粋）：

下式(I)及び(II)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 は炭素数1〜8のアルキルを表す)で示される各重合単位を含む樹脂、及び酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 505

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 505