特許
J-GLOBAL ID：200903031132798875
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-047101
公開番号（公開出願番号）：特開平10-229042
出願日： 1997年02月14日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】本発明は、レチクルのパターンを投影光学系を介して露光基板上に投影する投影露光装置に関し、レチクルと投影光学系の相対位置の変化を検出することができる投影露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】投影光学系6のレチクルステージ2寄りの側部のX、Y方向にそれぞれ反射鏡3が固定されている。レチクルステージ2を支持する第2架台5のレチクルステージ2寄りのX、Y方向には、投影光学系6に取り付けられた反射鏡3に対応してレーザ測長ユニット4が取り付けられている。レーザ測長ユニット4の図示しない固定鏡は第2架台5に取り付けられており、第2架台5の固定鏡と投影光学系6の反射鏡3との相対的な位置の差が干渉光として受光系で受光されるようになっている。レーザ測長ユニット4で計測された投影光学系6と第2架台5との位置情報は制御部15に入力される。
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたレチクルを載置して移動するレチクルステージと、前記パターンの像を露光基板に投影する投影光学系と、前記露光基板を載置して移動する基板ステージとを有する投影露光装置において、前記基板ステージの前記移動に起因した前記レチクルと前記投影光学系との相対的な位置の差を計測する計測手段とを有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L 21/30 520 Z
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 503 F
, H01L 21/30 516 B
, H01L 21/30 516 C
