特許
J-GLOBAL ID：200903031153397161
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-185517
公開番号（公開出願番号）：特開平7-022500
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：
【要約】【目的】 高真空度、高温の処理室内で被処理体を処理しても処理室内を汚染させない処理装置を得る。【構成】 処理室内に位置し、この処理室内雰囲気に直接曝されているヒータ23の給電導体部31と、この給電導体部31に接続されて電力を供給する供給線32の材質をカーボンで構成する。【効果】 カーボンは非金属であるから、高真空度、高温の下でもメタルコンタミネーションを発生させることはなく、処理室内の雰囲気を汚染させない。
請求項（抜粋）：
気密に構成された処理室と、前記処理室内に設けられた載置台と、前記載置台に載置された被処理体を加熱する加熱装置とを有し、前記載置台に載置された前記被処理体を所定の減圧雰囲気で処理する如く構成された処理装置において、前記処理室内で使用される配線用の導電部材が、カーボンで構成されていることを特徴とする、処理装置。
IPC (2件)：
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