特許

J-GLOBAL ID：200903031154207374

基板処理装置

発明者： 村岡 祐介 ,  柴山 宣之
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-178035
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358108
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】 処理液に超音波振動を十分に付与することができて、基板の処理効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】そこで本発明では、超音波振動発生器7から超音波振動が照射される処理槽1の底壁11の底面に、処理槽1の外側に突出する複数の半円球状の突出部を形成して、処理槽1内に入射する超音波振動を散乱させる。

請求項（抜粋）：

超音波振動が付与された処理液に基板を浸漬させて基板を処理する基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、処理槽に貯留された処理液中で基板を支持する支持手段と、超音波振動を前記処理槽の外壁に外側から照射して、前記外壁を介して前記処理液に超音波振動を付与する超音波振動発生手段とを有し、前記処理槽の外壁が、処理液に付与される超音波振動を散乱させるように形成されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 642 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/304 642 E ,  B08B 3/12 A ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 J

Fターム (16件)：

3B201AA03 ,  3B201AB08 ,  3B201AB42 ,  3B201BB04 ,  3B201BB85 ,  3B201BB86 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21 ,  5F043BB27 ,  5F043DD19 ,  5F043EE05 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046MA07 ,  5F046MA10