処理装置及びデバイス生産方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-306604
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149970
出願日： 1996年11月18日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】処理装置中でケミカルフィルタの占める空間割合やコスト割合を減少させること。【解決手段】露光装置などの処理部を有し循環する気体によって恒温となるよう空調管理された恒温室と、気体中の化学物質を除去するためのケミカルフィルタと、ケミカルフィルタに導入される気体またはケミカルフィルタ自体を加熱する加熱用熱交換器と、ケミカルフィルタを通過する空気の温度を測定するための温度センサとを設け、センサの測定に基づいて加熱用熱交換器の能力を制御する。

請求項（抜粋）：

処理室内の気体を循環させるための空調機と、該処理室内の化学物質を除去するためのケミカルフィルタ手段を備え、該ケミカルフィルタ手段の直前もしくはケミカルフィルタ手段と一体に加熱手段を設けたことを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , B01D 46/42 , B01D 53/04 , F24F 13/28 , H01L 21/02

FI (5件)：

H01L 21/30 503 G , B01D 46/42 B , B01D 53/04 F , H01L 21/02 D , F24F 1/00 371 A

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