特許
J-GLOBAL ID：200903031163880880
凹版並びにこれを用いた画像形成方法および画像形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-122047
公開番号（公開出願番号）：特開2005-305670
出願日： 2004年04月16日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 ガラス基板のように硬質で、インキの転写性があまり良くない被印刷基板に対して、高精細にパターンニングされた画像を安定して形成することができ、基板の大型化にも対応でき、かつインキ膜厚の薄膜化も実現できるようにする。【解決手段】 版基材1に、画線部に対応する凹部2と非画線部に対応する土手部3とからなる版パターンが設けられており、土手部3が弾性変形可能である凹版10を用い、直刷り法により画像を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
版基材に、画線部に対応する凹部と非画線部に対応する土手部とからなる版パターンが設けられている凹版であって、前記土手部が弾性変形可能であり、かつ前記土手部の上面の一部または全部が、インキを反発する撥インキ材料からなることを特徴とする凹版。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
2H113AA02
, 2H113BA03
, 2H113BB09
, 2H113BB22
, 2H113CA17
, 2H113DA46
, 2H113DA64
, 2H114AA02
, 2H114DA46
, 2H114DA62
, 2H114EA04
, 2H114GA02
