特許
J-GLOBAL ID：200903031171551259

フォトマスクおよび縮小投影露光装置

発明者：
植田 慶一

植田 慶一 について

, 
久保 博稔

久保 博稔 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190557
公開番号（公開出願番号）：特開平7-140642
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】縮小投影露光装置において、焦点深度を低下させることなく解像力を向上させる。【構成】光源51からの露光光は、フライアイ・レンズ52によって均一な光束Qとなり、アパーチャ・ストップ53の光出射部53aからコンデンサ・レンズ54を介してマスク11に入射される。その光束Qは凹凸部12によって回折され、光束Qの光軸Jとは別の方向の±1次回折光α,βが発生する。±1次回折光α,βは、光束Qの光軸Jに対して斜め方向から回路パターン56へ入射して回折される。このとき、±1次回折光α,βの進行方向と同じ方向の0次回折光と、別の方向の±1次回折光δ,γおよびそれ以上の高次の回折光(図示略)が発生する。+1次回折光δと0次回折光とは、投影レンズ57のフーリエ変換面58を通して投影レンズ57の像面に向けられ、ウェハ59の表面に回路パターン56を結像させる。
請求項（抜粋）：
透明基板(21)上に遮光膜(22)を設け、その遮光膜(22)を部分的に除去した開口パターン(56)を形成したフォトマスク(11)において、当該透明基板(21)の当該開口パターン(56)が形成された面とは反対側の面に、露光に用いる光を回折させる凹凸部(12)を設けたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
H01L 21/30 512 ,  H01L 21/30 514 D ,  H01L 21/30 516
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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