特許

J-GLOBAL ID：200903031174990865

基板処理装置

発明者： 河村 隆 ,  梶野 一樹 ,  高村 幸宏 ,  増市 幹雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-058537
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250859
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】 回転台等の回転部材に対する基板の相対的な回転力を積極的に発生させて基板を回転させることにより、基板の支持に起因する処理ムラを防止して均一な処理を施すことができる。【解決手段】 基板処理装置において、基板Wの端縁に当接して水平方向への移動を規制する複数個の規制部材19を回転可能に回転台3に備えた。複数個の規制部材19が回転可能であるので、一定の加減速や処理液の供給により基板Wは複数個の規制部材19に対して滑り出して基板Wが回転台3に対し相対回転を行う。したがって規制部材19が基板端縁の同じ位置に当接し続けることがなく、基板Wの支持に起因する処理ムラを防止して均一な処理を施すことができる。

請求項（抜粋）：

基板を回転させつつ基板の下面から処理液を供給して基板に所定の処理を施す基板処理装置において、基板の下面側に配置され、かつ基板の下面と対向する対向面を有し、回転可能な回転部材と、前記回転部材に回転可能に設けられ、基板の端縁に当接して基板の移動を規制する複数個の規制部材と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40

FI (3件)：

H01L 21/68 N ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A

Fターム (20件)：

4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075DA08 ,  4D075DB13 ,  4D075DC22 ,  4F042AA07 ,  4F042EB08 ,  4F042EB11 ,  4F042EB12 ,  5F031CA01 ,  5F031HA24 ,  5F031HA27 ,  5F031HA30 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031LA07 ,  5F031LA11 ,  5F031LA14 ,  5F031LA15 ,  5F031MA24