基板処理装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-360635
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170573
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】基板保持手段と処理液案内部材との位置関係の切り換えに煩雑さがなく、かつ装置の高さ方向にスペースを小さくできる。【解決手段】ウエハWに純水を供給する第1処理液供給源34と、ウエハWに薬液を供給する第2処理液供給源35と、スピンチャック1の周囲に配置され、純水を受け止める純水案内部53が形成され、かつ純水案内部53の下側に薬液を受け止める薬液案内部54が形成されたスプラッシュガード5と、スピンチャック1の周囲に純水案内部53が配置される状態及びスピンチャック1の周囲に薬液案内部54が配置される状態になるように、スプラッシュガード5を移動させる第2の昇降機構50と、スピンチャック1にウエハWを保持している際のウエハWの位置する側方位置に、開口61が形成されたチャンバ6とを備え、純水案内部53には、ウエハWの搬送を行うための側方開口58が形成されている。

請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を回転させる第1駆動手段と、前記基板保持手段に保持された基板に第1処理液を供給する第1処理液供給手段と、前記基板保持手段に保持された基板に第2処理液を供給する第2処理液供給手段と、前記基板保持手段の周囲に配置され、第1処理液を受け止める第1処理液案内部が形成されているとともに、前記第1処理液案内部の下側に第2処理液を受け止める第2処理液案内部が形成されている処理液案内部材と、前記基板保持手段の周囲に前記第1処理液案内部が配置される第1の状態及び前記基板保持手段の周囲に前記第2処理液案内部が配置される第2の状態になるように、前記処理液案内部材と前記基板保持手段とを相対的に移動させる第2駆動手段と、前記基板保持手段及び前記処理液案内部材を収容し、前記基板保持手段が基板を保持している際の基板の位置する側方位置に、基板の搬送を行うための第1開口が形成された処理室とを備え、前記処理液案内部材の第1処理液案内部には、前記処理室の第1開口と前記基板保持手段との間で基板の搬送を行うための第2開口が形成されたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

B08B 3/02 , H01L 21/304 643 , H01L 21/306 , H01L 21/68

FI (4件)：

B08B 3/02 B , H01L 21/304 643 A , H01L 21/68 N , H01L 21/306 R

Fターム (19件)：

3B201AA03 , 3B201AB23 , 3B201AB34 , 3B201BB22 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CB01 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CC13 , 3B201CD22 , 3B201CD33 , 5F031CA02 , 5F031HA25 , 5F031MA23 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE09 , 5F043EE32

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