特許

J-GLOBAL ID：200903031188446467

光導波路グレーティングおよびその製造方法

発明者： 中居 道弘 ,  島 研介 ,  日高 啓▲視▼ ,  奥出 聡 ,  須藤 正明 ,  酒井 哲弥 ,  和田 朗 ,  山内 良三
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ
代理人 (1件)： 志賀 正武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-121973
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304638
出願日： 1996年05月16日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 反射モード結合型光導波路グレーティングを製造する際に、アポディゼイションを容易に行うことができるようにする。【解決手段】 コアが紫外光照射によって屈折率が変化する材料からなる光ファイバ1に、位相マスク2を介して紫外光4を照射してグレーティング部を形成する際に、光ファイバ1と紫外光源との間にV字状の凹部3aを有する遮蔽板3を配置し、紫外光4を照射しつつ遮蔽板3をX方向へ移動させることによって、光ファイバ1に対する紫外光4の照射時間を光ファイバ長さ方向に変化させて、アポディゼイションを達成する。

請求項（抜粋）：

コアが紫外光照射によって屈折率が変化する材料からなる光導波路に、紫外光を照射してグレーティング部を形成するグレーティング部形成工程を有し、該グレーティング部形成工程を行う際に、光導波路と紫外光源との間に遮蔽板を配置し、紫外光を照射しつつ該遮蔽板を移動させることによって、光導波路に対する紫外光の照射時間を光導波路長さ方向に変化させることを特徴とする光導波路グレーティングの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 6/13 ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/122

FI (4件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 C