特許
J-GLOBAL ID：200903031199382711
半導体製造用エアフイルタ装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-086046
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302487
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】 有機系不純物によるクリーンルーム内および半導体処理装置の汚染を防止することができるエアフイルタ装置することを目的とする。【構成】 半導体製造用エアフイルタ装置は、熱処理装置等の空気循環路に設置するエアフイルタ装置24を、フイルタ枠33をアルミニウム等の金属によって形成するとともに、エアフイルタ34を、ステンレス等の金属繊維を焼結してシート状に形成し、フイルタ枠33にロー付けによって固定したことにある。
請求項（抜粋）：
フイルタ枠と、このフイルタ枠に固定されたエアフイルタとからなる半導体製造用エアフイルタ装置において、前記フイルタ枠を金属によって形成するとともに、前記エアフイルタを、金属繊維を焼結してシート状に形成し、前記フイルタ枠に装着したことを特徴とする半導体製造用エアフイルタ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/02
, B01D 39/20
, F24F 7/06
