特許
J-GLOBAL ID：200903031206064062
投影光学系の結像特性計測方法及び投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-316308
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135421
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】短時間で残存収差量の計測が可能であり、さらに高精度な計測が可能な投影光学系の結像特性計測方法及び当該方法を用いて残存収差量を修正する投影露光装置を提供する。【解決手段】照明光学系は物体面のフーリエ変換面の位置に光軸から偏心した計測用開口を有し、物体面の位置に計測用開口の偏心する方向に配列された周期パターンを配置し、且つ、周期パターンによって生成される回折光のうち、0次回折光と光軸とのなす角度と、+1次回折光及び-1次回折光のいずれか一方と光軸とのなす角度とがほぼ等しくなるように、周期パターンの配列周期を設定し、像面の位置に、周期パターンの像の強度分布を計測する計測センサを配置し、強度分布に基づいて投影光学系の残存収差量を求める投影光学系の結像特性計測方法、及び残存収差量に基づいて収差を修正する機構を有する投影露光装置である。
請求項（抜粋）：
照明光学系によって照明された物体面の像を像面上に結像する投影光学系の前記結像の特性を計測する方法において、前記照明光学系は、前記物体面のフーリエ変換面の位置に、光軸から偏心した計測用開口を有し、前記物体面の位置に、前記計測用開口の偏心する方向に配列された周期パターンを配置し、且つ、該周期パターンによって生成される回折光のうち、0次回折光と光軸とのなす角度と、+1次回折光及び-1次回折光のいずれか一方と光軸とのなす角度とがほぼ等しくなるように、前記周期パターンの配列周期を設定し、前記像面の位置に、前記周期パターンの像の強度分布を計測する計測センサを配置し、該強度分布に基づいて前記投影光学系の残存収差量を求めることを特徴とする投影光学系の結像特性計測方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
