特許

J-GLOBAL ID：200903031226342212

不活性保護基を有するPHSを含有するネガティブ・レジスト

発明者： グレゴリー・ブレイタ ,  ウィリアム・アール・ブルンスヴォルド ,  ウィリアム・イー・コンリー・ジュニア ,  キャスリーン・エム・コーネット ,  マハムード・エム・ホジステ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-165650
公開番号（公開出願番号）：特開平10-062994
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 0.263NのTMAHをはじめ、従来より広範囲の現像液濃度に適合し、比較的広範囲の焦点深度、線量などの処理条件下で、シャープに合焦した像を形成できるネガティブ・レジスト提供。【解決手段】 -OHサイトをレジスト皮膜の安定性を保護するのに有効な比率で酸に不安定でない-OR基に変換したポリヒドロキシスチレを含む重合体樹脂からなる、ネガティブ・レジスト。

請求項（抜粋）：

-OHサイトが、苛酷な現像条件でレジスト皮膜の安定性を保護するのに有効な比率で、酸に不安定でない-OR基に変換されたポリヒドロキシスチレンを含む重合体樹脂からなる、ネガティブ・トーンのレジスト皮膜の基材として使用するのに適した組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R