特許

J-GLOBAL ID：200903031244020443

光触媒活性を有する薄膜の形成方法

発明者： 玉木 聡史 ,  大杉 高志
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-045463
公開番号（公開出願番号）：特開平10-235203
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】【課題】 耐熱性が劣る材料からなる基材を用いた場合であっても、優れた光触媒活性を発現し得る光触媒活性を有する薄膜の形成方法組成物を得る。【解決手段】 光硬化型ゾルゲル法により薄膜を形成するにあたり、基材上に未硬化の薄膜を形成した後、未硬化の薄膜上に光半導性物質を付着させてから光を照射して薄膜を硬化させると共に光半導性物質を固定する、光触媒活性を有する薄膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

光硬化型ゾルゲル法による光触媒活性を有する薄膜の形成方法であって、基材上に未硬化の薄膜を形成する工程と、未硬化の薄膜上に光半導性物質を付着させる工程と、薄膜に光を照射して硬化させると共に光半導性物質を該薄膜に固定する工程とを備えることを特徴とする光触媒活性を有する薄膜の形成方法。

IPC (6件)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 37/34 ,  C01G 23/04 ,  C01G 23/053

FI (6件)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 ,  B01J 37/02 301 A ,  B01J 37/34 ,  C01G 23/04 C ,  C01G 23/053