特許
J-GLOBAL ID：200903031247119378
光ビーム走査装置用反射ミラー及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
影井 俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-168978
公開番号（公開出願番号）：特開2002-365583
出願日： 2001年06月05日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：
【要約】【課題】 ミラー基板の表面にメッキ層を析出させて、このメッキ層を研磨することにより高面精度を有する反射面層を形成し、もって毒性のない材料により高速で高精度な光走査を可能とする反射ミラーを形成する。【解決手段】 反射ミラー10を構成するミラー基板11を、軽量で、しかも動作に耐えうる剛性を有する材料であるマグネシウム合金で形成し、このミラー基板11の表面に反射面層12を形成する。反射面層12としては、ビッカース硬度500Hv以上の硬い材質であるニッケル・リンメッキまたはニッケル・リン・ホウ素メッキからなるメッキ層で形成し、このメッキ層を高精度に研磨加工して30〜20μmの厚みとすることにより、全体としての反射ミラー10を重量化することなく、面精度が0.4λ乃至それ以下にまで精度を上げた反射面として、レーザビームを正確な方向に向けて反射させる。
請求項（抜粋）：
反射面にレーザビームを反射させ、この反射面を所定角度振動させて、レーザビームを被走査部材表面に沿って走査させる光ビーム走査装置に用いられる反射ミラーにおいて、前記反射面を最大角度振れた時に実質的に変形しない程度の剛性を有するミラー基板と、このミラー基板の表面にメッキ層を析出させて、このメッキ層を研磨することにより高面精度を有する反射面層とからなることを特徴とする光ビーム走査装置用反射ミラー。
Fターム (2件)：
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