特許
J-GLOBAL ID:200903031273516261

ヒ素除去用濾材及びヒ素を含有する水の精製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八木田 茂 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-210386
公開番号(公開出願番号):特開2002-079015
出願日: 2001年07月11日
公開日(公表日): 2002年03月19日
要約:
【要約】【課題】本発明は地下水からヒ素を除去するための濾材、特に、再生が可能で、かつ通常の飲料水のpHで水を濾過するのに効率的に使用し得るヒ素除去用濾材を提供する。【解決手段】本発明のヒ素除去用濾材は、焼成珪藻土と、該焼成珪藻土に結合した5重量%〜30重量%の第二鉄イオンとから本質的になる。このヒ素除去用濾材を製造する一つの方法は、焼成珪藻土と塩化第二鉄との混合物を調製し、該混合物を長時間放置し、それによって、塩化第二鉄を珪藻土中に完全に含浸させ、ついで、この混合物に、該混合物のpHが少なくとも9.0になるまで、水酸化ナトリウムを添加して、塩化第二鉄をゆっくりかつ完全に酸化して水酸化第二鉄にすることからなる。かく得られるヒ素除去用濾材は第二鉄イオンと焼成珪藻土との間に強固でかつ耐久性の結合を有する。このヒ素除去用濾材は数回、再生することができ、しかも、そのヒ素吸着能力の減少は最小限である。ヒ素除去用濾材を再生する方法は、水酸化ナトリウムを使用してヒ素をその場で脱着しついで水洗することからなる。
請求項(抜粋):
焼成珪藻土と、該焼成珪藻土に結合した5重量%〜30重量%の第二鉄イオンとから本質的になる、溶解ヒ素を水から除去するためのヒ素除去用濾材であって、ヒ素で飽和された後の濾材の再生を、数回、反復することのできるものであるヒ素除去用濾材。
IPC (4件):
B01D 39/06 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/34 ,  C02F 1/28
FI (4件):
B01D 39/06 ,  B01J 20/18 E ,  B01J 20/34 G ,  C02F 1/28 Z
Fターム (21件):
4D019AA10 ,  4D019BA05 ,  4D019BC05 ,  4D024AA02 ,  4D024AB14 ,  4D024BA06 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024CA01 ,  4D024CA07 ,  4G066AA27B ,  4G066AA39A ,  4G066AA39B ,  4G066AA70C ,  4G066CA21 ,  4G066DA07 ,  4G066EA20 ,  4G066FA12 ,  4G066GA11 ,  4G066GA34

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