特許

J-GLOBAL ID：200903031274280920

現像装置及び現像方法並びに原盤の製造方法

発明者： 小山 栄二
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 川北 喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-179919
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005195
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 現像斑の発生を防止し、微細なパターンで露光した露光部分を確実に除去することが可能な現像装置及び現像方法を提供する。【解決手段】 現像装置200は、原盤1の上方に、支持板7により支持された超音波振動子3を備える。超音波振動子3で超音波を発生させながら支持板7と原盤1との間に現像液を充満させ、原盤1をターンテーブル4により回転させる。これにより現像液14に超音波が伝播してフォトレジストへの現像液14の浸透が均一になる。また原盤1を回転させることで、超音波振動子3は原盤1に対して相対的に移動し、原盤全体に形成されている現像液14に超音波を均一に伝播させる。これにより現像むらが発生することが防止され、フォトレジストに所望のパターンを形成することができる。

請求項（抜粋）：

所望の凹凸パターンで露光されたフォトレジストを有する原盤を現像するための現像装置において、原盤を載置し回転させるためのターンテーブルと、超音波を発生させるための超音波振動子と、該超音波振動子を支持し、且つ上記原盤上に所定の高さで配置される支持板と、原盤と支持板との間に現像液を供給するための現像液供給源とを備えることを特徴とする現像装置。

IPC (3件)：

G03F 7/30 501 ,  G11B 7/26 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/30 501 ,  G11B 7/26 ,  H01L 21/30 569 B

Fターム (8件)：

2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096GA29 ,  2H096GA33 ,  5D121BB28 ,  5D121BB38 ,  5F046LA03 ,  5F046LA15