特許
J-GLOBAL ID:200903031279147837

プラズマクリーニング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河野 登夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-290544
公開番号(公開出願番号):特開平6-136568
出願日: 1992年10月28日
公開日(公表日): 1994年05月17日
要約:
【要約】【目的】 装置稼働率及び製品良品率を向上せしめるプラズマクリーニング方法を提供する。【構成】 Cl2 (200sccm) とHe(100sccm) との混合ガスをガス導入管5を介して反応室1内へ導入し、圧力350mTorr,Power 250 W,上部電極2,下部電極3の電極間隔 1.1cmで高周波を印加して 300秒間クリーニングを行う。
請求項(抜粋):
プラズマエッチング処理を行う処理容器へ、処理終了後、クリーニング用のガスを導入し、高周波を印加して処理容器内に付着した付着物を除去する方法において、前記クリーニング用のガスとしてCl2 とHeとの混合ガスを前記処理容器へ導入することを特徴とするプラズマクリーニング方法。
IPC (2件):
C23F 4/00 ,  H01L 21/302

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