特許
J-GLOBAL ID:200903031281298583

複合ヒータ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 足立 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-225093
公開番号(公開出願番号):特開2004-071647
出願日: 2002年08月01日
公開日(公表日): 2004年03月04日
要約:
【課題】低コストで、半導体ウェハ等のワークを加熱する面内の温度分布を小さくすることができ、しかも、ワークを速やかに冷却することができる複合ヒータを提供すること。【解決手段】複合ヒータ(1)は、円盤状のセラミックヒータ(7)と円盤状の金属ベース(9)とを接合したものである。セラミックヒータ(7)は、アルミナ質の焼結体からなる絶縁体を基体とし、その内部には、内部電極(11)、(13)と発熱体(17)とが配置されている。金属ベース(9)は、アルミニウム及びシリカを主成分とする金属製である。セラミックヒータ(7)と金属ベース(9)とは、互いの主面側にて、Alロー材により全面にわたって接合されて一体化している。セラミックヒータ(7)と金属ベース(9)との材料として、上述した各材料を用いることにより、熱膨張差が、5ppm/°C以内と非常に小さく設定されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
セラミック体の内部に発熱体を有するセラミックヒータによって、加熱対象を加熱する複合ヒータであって、 前記セラミックヒータと金属ベースとを、接合して一体化したことを特徴とする複合ヒータ。
IPC (5件):
H01L21/02 ,  C23C16/46 ,  H01L21/027 ,  H01L21/31 ,  H05B3/20
FI (6件):
H01L21/02 Z ,  C23C16/46 ,  H01L21/31 B ,  H05B3/20 328 ,  H01L21/30 567 ,  H01L21/30 503C
Fターム (36件):
3K034AA10 ,  3K034AA15 ,  3K034AA21 ,  3K034AA34 ,  3K034AA37 ,  3K034BA06 ,  3K034BA13 ,  3K034BA17 ,  3K034BB06 ,  3K034BB13 ,  3K034BC04 ,  3K034BC12 ,  3K034BC16 ,  3K034CA02 ,  3K034CA14 ,  3K034CA17 ,  3K034CA22 ,  3K034CA26 ,  3K034CA27 ,  3K034JA10 ,  4K030CA04 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030KA23 ,  4K030LA15 ,  5F045AA04 ,  5F045AA06 ,  5F045AA08 ,  5F045BB04 ,  5F045EJ02 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK09 ,  5F045EM05 ,  5F046CC08 ,  5F046KA04
引用特許:
審査官引用 (1件)

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