特許

J-GLOBAL ID：200903031287744780

研磨剤の製造方法

発明者： 加藤 寛 ,  林 和彦 ,  河野 博之
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-100537
公開番号（公開出願番号）：特開平9-286974
出願日： 1996年04月22日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【課題】 研磨速度が向上されたシリカの水分散液よりなる研磨剤を提供する。【解決手段】 シリカ粒子を分散したケイ酸アルカリ水溶液を、該シリカ粒子の存在下に、ケイ酸アルカリが過飽和となる状態を経由して調製する。シリカとしては、乾式シリカが、ケイ酸アルカリとしてはケイ酸カリウムが好適に使用できる。

請求項（抜粋）：

シリカ粒子を分散したケイ酸アルカリ水溶液を、該シリカ粒子の存在下に、ケイ酸アルカリが過飽和となる状態を経由して調製することを特徴とする研磨剤の製造方法。

IPC (2件)：

C09K 3/14 550 ,  C01B 33/14

FI (2件)：

C09K 3/14 550 D ,  C01B 33/14