特許
J-GLOBAL ID：200903031292057685
試料変位測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-060192
公開番号（公開出願番号）：特開平5-322516
出願日： 1991年03月25日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：
【要約】【目的】 微小な試料変位の絶対値の測定を正確に行うこと。【構成】 本発明は、半導体レーザーのような光源からの不完全な直線偏光の所要の垂直成分(以下「第1偏光成分」という)を焦点ずれ計測系に利用し、本来所要とはされていない平行成分(以下「第2偏光成分」という)を干渉縞生成・検出系に利用して、焦点エラー検出装置にその測定値を評定するための干渉縞の強度変化計測系を内蔵させることにより、微小な試料変位の絶対値の測定を行うものである。
請求項（抜粋）：
実質的に直線偏光である平行光を発生する光発生手段と、平行光の第1偏光成分を反射し、平行光の第2偏光成分を透過する偏光ビームスプリッタと、第1と第2と第3のビームスプリッタと、4分の1波長板と、試料観察用の対物レンズと、試料の変位を焦点ずれとして検出する焦点ずれ検出装置と、干渉縞の強度変化を検出する干渉縞検出装置とを備え、前記の偏光ビームスプリッタは前記の光発生手段からの平行光の第1偏光成分を平行光の進行方向に交差する第1の方向へ反射し、そして平行光の第2偏光成分を平行光の進行方向に透過するよう配置し、前記の第1のビームスプリッタは前記の第1の方向に交差する第2の方向に前記の偏光ビームスプリッタからの第1偏光成分を反射するよう配置し、この第1偏光成分が前記の4分の1波長板と対物レンズとを通って試料表面に収束するよう前記の4分の1波長板と対物レンズを配置し、前記の焦点ずれ検出装置は試料表面から反射し、前記の対物レンズと4分の1波長板とを通って、前記の第1のビームスプリッタで反射され、前記の偏光ビームスプリッタを透過した反射光の第2偏光成分を受けるよう配置され、前記の第2のビームスプリッタは前記の第1のビームスプリッタを透過した前記の反射光の第2偏光成分を反射させるよう配置され、そして前記の第3のビームスプリッタは前記の偏光ビームスプリッタを透過した平行光の第2偏光成分を反射し、そして前記の第2のビームスプリッタから反射された反射光の第2偏光成分を透過するよう配置され、そして前記の干渉縞検出装置は前記の第2のビームスプリッタからの反射光の第2偏光成分と前記の偏光ビームスプリッタを透過した平行光の第2偏光成分との干渉縞を検出するよう配置されたことを特徴とする試料変位測定用光学装置。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G01B 11/30 102
, G01C 3/06
