特許
J-GLOBAL ID:200903031306984410
フォトレジストの現像液、現像方法及び薄膜トランジスタの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松田 正道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-027772
公開番号(公開出願番号):特開平5-226652
出願日: 1992年02月14日
公開日(公表日): 1993年09月03日
要約:
【要約】【目的】 アルミニウムとITOが電気的に接触している薄膜トランジスタの製造に用いられるフォトレジストの現像方法に於て、ポジレジストの現像液に浸漬すると生ずるITOの選択的な腐食溶解を防止すること。【構成】 ITO9と電気的に接触するアルミニウム7、8上に用いられるフォトレジストの現像液として、硝酸塩を添加したアルカリ水溶液を用いる。
請求項(抜粋):
ITOと電気的に接触するアルミニウム上もしくはアルミニウムと電気的に接触するITO上に用いられるフォトレジストの現像方法において、その現像液として、硝酸塩を添加したアルカリ水溶液を用いることを特徴とするフォトレジストの現像方法。
IPC (5件):
H01L 29/784
, G02F 1/1343
, G03F 7/32
, H01L 21/027
, H01L 27/12
FI (2件):
H01L 29/78 311 F
, H01L 21/30 361 L
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