特許
J-GLOBAL ID:200903031310030862
微小流路を有するセル基板およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
谷 義一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-385029
公開番号(公開出願番号):特開2003-181257
出願日: 2001年12月18日
公開日(公表日): 2003年07月02日
要約:
【要約】【課題】 接着剤のカナルへの流入を防ぎ、歩留まりを高くするとともに、寸法精度の高い微小流路を形成する。【解決手段】 微小流路32を上面に有する浮き出し段差と、浮き出し段差の周囲に設けられた溜まり溝36とが形成された第1基板31と、微小流路32の蓋となり、浮き出し段差と嵌合する堀込み段差が形成された第2基板33とを備え、第1基板31と第2基板33とを接合して構成する。
請求項(抜粋):
複数の液体を合成し、合成物の化学分析を行うための微小流路を有するセル基板において、微小流路を上面に有する浮き出し段差と、該浮き出し段差の周囲に設けられた溜まり溝とが形成された第1基板と、前記微小流路の蓋となり、前記浮き出し段差と嵌合する堀込み段差が形成された第2基板とを備え、前記第1基板と前記第2基板とを接合して構成されることを特徴とする微小流路を有するセル基板。
IPC (3件):
B01F 5/00
, B01F 3/08
, G01N 27/447
FI (3件):
B01F 5/00 D
, B01F 3/08 Z
, G01N 27/26 331 E
Fターム (4件):
4G035AB37
, 4G035AC01
, 4G035AE13
, 4G035AE17
引用特許:
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