特許
J-GLOBAL ID：200903031313510792
NDフィルタの製造装置、NDフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-165103
公開番号（公開出願番号）：特開2005-345747
出願日： 2004年06月02日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：
【課題】グラデーション濃度分布を有するNDフィルタの製造において、更なる精度の向上を図ることが可能となるNDフィルタの製造装置、NDフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供する。【解決手段】基板102が取り付けられた回転機構101を回転させ、蒸着源またはターゲット等から到達した成膜材を、前記基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して前記基板に付着させ、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜するNDフィルタの製造装置であって、前記スリット型マスクとは別に構成された成膜材を通過させるための任意の数、任意の形状をした成膜材通過領域を有するマスク機構107を備え、該マスク機構を前記基板に設けられたマスクと蒸着源またはターゲット等との間で、成膜中において初期に設定された位置に固定可能に構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板が取り付けられた回転機構を回転させ、蒸着源またはターゲット等から到達した成膜材を、前記基板に所定間隔を置いて設けられたスリット型マスクを介して前記基板に付着させ、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜するNDフィルタの製造装置であって、
前記スリット型マスクとは別に構成された成膜材を通過させるための任意の数、任意の形状をした成膜材通過領域を有するマスク機構を備え、該マスク機構を前記基板に設けられたマスクと蒸着源またはターゲット等との間で、成膜中において初期に設定された位置に固定可能としたことを特徴とするNDフィルタの製造装置。
IPC (3件)：
G02B5/00
, C23C14/04
, G03B9/02
G02B5/00 A
, C23C14/04 A
, G03B9/02 A
2H042AA06
, 2H042AA08
, 2H042AA22
, 2H080AA03
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA42
, 4K029BA44
, 4K029BA48
, 4K029BB02
, 4K029BC08
, 4K029BD03
, 4K029CA01
, 4K029GA01
, 4K029HA01
, 4K029JA02
出願人引用 (8件)
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特許第2754518号公報
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特許第2771078号公報
-
特許第2771084号公報
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審査官引用 (2件)
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