特許

J-GLOBAL ID：200903031323678411

飽和蒸気生成方法及びその装置と蒸気加熱方法及びその装置。

発明者： 平山 一政
出願人/特許権者： 株式会社 T.M.L ,  平山 一政
代理人 (1件)： 首藤 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-014454
公開番号（公開出願番号）：特開2008-180448
出願日： 2007年01月25日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：

【課題】 低温の飽和蒸気の生成方法及びその装置と、その飽和蒸気を用いた加熱用の、例えば、食品加工用等の蒸気加熱装置の提供。【解決手段】 本発明は、蒸気が原始的に生成される母体となる一次液体から一次蒸気を生成する一次蒸気発生手段と、飽和蒸気が生成される母体となる二次液体を備えた飽和蒸気用容器と、前記二次液体中に前記一次蒸気を噴出させる蒸気噴出手段とを備えたことを特徴とする。 又、蒸気噴出手段は、噴出間隙を形成する相対の縁が平行に形成された蒸気噴出部を有することを特徴とする。又、蒸気が原始的に生成される母体となる一次液体から生成された一次蒸気を、飽和蒸気が生成される母体となる二次液体中に噴出させて、前記二次液体中を通過させることにより飽和蒸気を生成させることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

蒸気が原始的に生成される母体となる一次液体から一次蒸気を生成する一次蒸気発生手段と、飽和蒸気が生成される母体となる二次液体を備えた飽和蒸気用容器と、前記二次液体中に前記一次蒸気を噴出させる蒸気噴出手段とを備えたことを特徴とする飽和蒸気生成装置。

IPC (3件)：

F22B 1/08 ,  F28C 3/08 ,  A23L 1/01

FI (3件)：

F22B1/08 ,  F28C3/08 A ,  A23L1/01 A

Fターム (3件)：

4B035LC16 ,  4B035LP03 ,  4B035LT02