特許
J-GLOBAL ID：200903031335275487
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-031511
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045221
出願日： 1993年02月22日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 変形光源法において縦方向パターンと横方向パターンの両方の焦点深度をほぼ等しく、かつ共に増大する。【構成】 照明光学系内のフライアイレンズ7の射出側面近傍に変形光源フィルター8を設けるとともに、変形光源フィルター8の形状をフライアイレンズ7を構成するレンズエレメント7aの配列、形状に応じて最適化する。このとき、縦方向パターンと横方向パターンとの各々に有効な2次光源の数を両者で同数とする。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形して、互いに直交する方向に配列された第1の周期性パターンと第2の周期性パターンとを有するマスクに照射する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記照明光学系中の前記マスクのパターン面に対するフーリエ変換面、もしくはその近傍面に複数の光源像を形成するフライアイ型インテグレータと;前記複数の光源像による光量分布が前記照明光学系の光軸から偏心した複数の局所領域の各々で極大となり、かつ該局所領域内で前記第1の周期性パターンの焦点深度に寄与する光源像と前記第2の周期性パターンの焦点深度に寄与する光源像とが同数となるように、前記複数の光源像を部分的に遮光、又は減光する絞り部材とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
