特許

J-GLOBAL ID：200903031338415344

X線分析装置

発明者： 能登谷 智史
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-258428
公開番号（公開出願番号）：特開2004-093517
出願日： 2002年09月04日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】EPMAによるX線分析とEBSD測定とを短時間で手軽に切り換えて行うことのできるX線分析装置を提供する。【解決手段】試料ステージ上の試料載置面に載置された試料の表面に電子ビームを照射し、前記電子ビームの照射によって試料から発生した特性X線を検出してX線分析を行うX線分析装置において、前記試料ステージは、試料位置を前記X線分析を行う第1の位置から電子ビーム光軸Zに沿い下流側の第2の位置に切換可能に設けられると共に、第1の位置では試料に対し電子ビームがほぼ垂直に入射し、第2の位置ではそれと異なる所定の角度で入射するように試料面を傾斜させるように設けられ、さらに試料位置が前記第2の位置に設定された際に試料面から弾性散乱反射される電子を検出する検出器を配置したことを特徴とする。前記試料ステージは、電子ビーム光軸を通る平面に対し直交する回転軸を有し、この回転軸を中心に前記試料載置面を回転させることにより、試料位置を前記第1の位置と第2の位置との間で切り換えることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

試料ステージ上の試料載置面に載置された試料の表面に電子ビームを照射し、前記電子ビームの照射によって試料から発生した特性X線を検出してX線分析を行うX線分析装置において、前記試料ステージは、試料位置を前記X線分析を行う第1の位置から電子ビーム光軸Zに沿い下流側の第2の位置に切換可能に設けられると共に、第1の位置では試料に対し電子ビームがほぼ垂直に入射し、第2の位置ではそれと異なる所定の角度で入射するように試料面を傾斜させるように設けられ、さらに試料位置が前記第2の位置に設定された際に試料面から弾性散乱反射される電子を検出する検出器を配置したことを特徴とするX線分析装置。

IPC (3件)：

G01N23/225 ,  G01N23/20 ,  H01J37/252

FI (3件)：

G01N23/225 ,  G01N23/20 ,  H01J37/252 A

Fターム (25件)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001CA10 ,  2G001EA01 ,  2G001GA04 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001GA13 ,  2G001GA14 ,  2G001HA12 ,  2G001JA02 ,  2G001JA07 ,  2G001JA11 ,  2G001KA01 ,  2G001KA08 ,  2G001PA11 ,  2G001PA14 ,  2G001PA15 ,  5C033PP02 ,  5C033PP04