特許
J-GLOBAL ID：200903031339047195
外観検査装置及び外観検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大日方 富雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-303856
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159333
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 検査対象物の表面に発生したパターン不良を検出すると共に、当該検出結果に基づいて、発生原因をも解析する外観検査装置を提供する。【構成】 外観検査装置は、試料台12に搭載された半導体ウェハ1に光線を照射する光源13と、その反射光を検出してパターン不良の特徴を示す信号を出力する反射光検出器14と、上記パターン不良検出手段によって得られた多数のパラメータ信号の値を、パターン不良の発生原因に応じてグループ分けする外観検査制御装置15と、グループ分けされたパターン不良を記憶する記憶装置16とを具える。上記制御装置15は、上記検出器14からの信号によってパターン不良を認識し、記憶装置16に記憶されているデータと比較して、その不良発生原因を判定する。
請求項（抜粋）：
試料台に搭載された検査対象物に光線を照射する照射手段と、その反射光を検出して検査対象物の表面に発生したパターン不良の特徴を示すパラメータ信号を出力するパターン不良検出手段と、上記パターン不良検出手段によって得られた多数のパラメータ信号の値を、パターン不良の発生原因に応じてグループ分けするパターン不良分類手段と、グループ分けされたパターン不良を記憶する不良モード記憶手段と、上記パターン不良検出手段によって得られたパラメータ信号を、上記モード記憶手段に記憶されている値と比較して、何れのグループに属するかを判断して不良発生原因を判定する不良モード判定手段とを具備したことを特徴とする外観検査装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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