特許
J-GLOBAL ID：200903031340038868

過酸化水素含有排水処理装置

発明者：
上杉 和也

上杉 和也 について

, 
杉崎 輝雄

杉崎 輝雄 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-390090
公開番号（公開出願番号）：特開2003-190972
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月08日
要約：
【要約】【課題】 過酸化水素分解触媒(還元触媒)を用いた過酸化水素含有排水の処理装置であって、触媒と過酸化水素との接触効率を高めて、装置の小型化、省スペース、設備費の低減を図ることができる処理装置を提供する。【解決手段】 反応塔内に過酸化水素含有排水を上向流で通水する。また、触媒を反応塔2内において上下方向に複数層(例えば下部触媒層8および上部触媒層14の上下2層)に分割して配置する。さらに、少なくとも最下方の触媒層で発生した酸素ガスをそれより上方の触媒層に接触させることなく反応塔外に排出するガス抜き管20を反応塔内に設置する。
請求項（抜粋）：
過酸化水素分解触媒を充填した反応塔内に過酸化水素含有排水を上向流で通水し、過酸化水素を酸素と水に分解する処理装置であって、前記過酸化水素分解触媒は反応塔内において上下方向に複数層に分割されて配置されているとともに、少なくとも最下方の触媒層で発生した酸素ガスをそれより上方の触媒層に接触させることなく反応塔外に排出するガス抜き管が反応塔内に設置されていることを特徴とする過酸化水素含有排水処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/70 ZAB ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/24
FI (3件)：
C02F 1/70 ZAB Z ,  B01J 19/00 C ,  B01J 19/24 Z
Fターム (12件)：
4D050AA13 ,  4D050AB33 ,  4D050BC04 ,  4D050BD02 ,  4G075AA15 ,  4G075AA37 ,  4G075BA06 ,  4G075BD04 ,  4G075BD16 ,  4G075CA54 ,  4G075EA01 ,  4G075EB09
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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