プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311408
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161490
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】【目的】中性粒子で被処理物であるウェーハ12を処理するプラズマ処理装置において、プラズマ室9で発生するプラズマ密度を高め、下部電極6より取出される均一濃度の中性粒子でウェーハ12を短時間で処理する。【構成】誘電体線路4によりプラズマ室9内にマイクロ波を導入し、大面積で、且つ高密度なプラズマを発明させる。更に、プラズマ処理室から放出されるイオンを中性化するために、誘電体線路4の下側にマイクロ波放射口14を有した上部電極5と、プラズマ室9から処理室10へ微小粒子を通過させる多数の孔6aを有した下部電極6を具備し、上記一組の電極に粒子を加速するための電源部13を備え、イオンがこの孔6aを通過中に起こる、イオンの電極に対する衝突により発生した2次電子との再結合、もしくは、オージェ電子放出過程による中性化により中性粒子ビームを得てウェーハ12を処理する。

請求項（抜粋）：

複数の微小な孔を有する陰極電極部でプラズマ室と処理室とに仕切られるとともに処理ガスを導入し排気する排気口をもつチャンバと、前記プラズマ室側に配置される板状の誘電体線路部材と、この誘電体線路部材を覆うとともにマイクロ波を導出する複数のマイクロ波放射口を有する陽極電極部と、前記誘電体線路部材の一端からマイクロ波を導入するマイクロ波発生部と、前記処理室に配置され被処理物を載置する処理台と、前記陽極電極部と前記陰極電極部との間に電圧を印加する電源部とを備えることを特徴とするブラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 , C23F 4/00 , H01L 21/3065 , H01L 21/31 , H05H 3/00

FI (2件)：

H01L 21/302 C , H01L 21/31 C

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