特許
J-GLOBAL ID:200903031343606344
光回折構造転写シート
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-177304
公開番号(公開出願番号):特開2000-010459
出願日: 1998年06月24日
公開日(公表日): 2000年01月14日
要約:
【要約】【課題】 従来、ホログラムや回折格子を形成した光回折構造転写シートにおいては、被転写体への転写時に使用するサーマルヘッドの静電気の影響で、光回折構造転写シートの耐熱滑性層等のカスがサーマルヘッドに付着したり、そのカスの影響でサーマルヘッドが腐食し、サーマルヘッドの故障の原因になる不具合があった。本発明は、これらの不具合を防止するため帯電防止性を有する光回折構造転写シートを提供する。【解決手段】 支持体シートの一方の面にプライマー層を介して耐熱滑性層が形成され、該支持体シートの他方の面に離型性樹脂層、保護層、光回折構造形成層、光反射層、接着層が順次積層されてなる光回折構造転写シートにおいて、少なくとも前記耐熱滑性層または前記プライマー層が帯電防止剤としてポリチオフェンを含有してなることを特徴とする光回折構造転写シートである。
請求項(抜粋):
支持体シート(2)の一方の面にプライマー層(3)を介して耐熱滑性層(4)が形成され、該支持体シート(2)の他方の面に離型性樹脂層(5)、保護層(6)、光回折構造形成層(7)、光反射層(8)、接着層(9)が順次形成されてなる光回折構造転写シート(1)において、少なくとも前記耐熱滑性層(4)または前記プライマー層(3)が帯電防止剤として導電性高分子を含有してなることを特徴とする光回折構造転写シート。
IPC (2件):
G03H 1/18
, B42D 15/10 501
FI (2件):
G03H 1/18
, B42D 15/10 501 G
Fターム (13件):
2C005HA30
, 2C005JA01
, 2C005JA18
, 2C005JA19
, 2C005KA37
, 2C005KA40
, 2C005KA48
, 2C005LA11
, 2C005LA30
, 2C005LB08
, 2K008AA00
, 2K008AA13
, 2K008DD02
引用特許:
審査官引用 (5件)
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転写シート
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-309783
出願人:大日本印刷株式会社
-
帯電防止性塗膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-090029
出願人:大日本印刷株式会社, ザ・インクテック株式会社
-
新規ポリチオフエン分散体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-036531
出願人:バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
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