特許

J-GLOBAL ID：200903031347249120

欠陥検査装置及び欠陥検査方法

発明者： 山下 恭司
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-297430
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107309
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】【課題】位相シフトマスク等超解像技術を用いたマスクにおいても、設計データから正確な光学像をシミュレーションし参照データとして用い、誤認のない欠陥検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】パターンを具備する検査基板上のパターンを光学的に読み取り、電気的な画像情報である検出画像データに変換し、前記検査基板の設計データからシミュレーションによって光学画像を求め参照データとし、前記検出画像データと前記参照データとを比較することによって欠陥検査をする欠陥検査装置において、前記設計データから2値又は多値の展開データを発生させ、前記検査基板の複素透過率分布又は複素反射率分布を求める第1の処理手段と、前記複素透過率分布又は前記複素反射率分布から光学像として前記参照データを計算する第2の処理手段と、前記検出画像データと前記参照データを比較する比較手段とを具備することを特徴とする欠陥検査装置。

請求項（抜粋）：

パターンを具備する検査基板上のパターンを光学的に読み取り、電気的な画像情報である検出画像データに変換し、前記検査基板の設計データからシミュレーションによって光学画像を求め参照データとし、前記検出画像データと前記参照データとを比較することによって欠陥検査をする欠陥検査装置において、前記設計データから2値又は多値の展開データを発生させ、前記検査基板の複素透過率分布又は複素反射率分布を求める第1の処理手段と、前記複素透過率分布又は前記複素反射率分布から光学像として前記参照データを計算する第2の処理手段と、前記検出画像データと前記参照データを比較する比較手段とを具備することを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (5件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G03F 1/08 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 1/00

FI (5件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  G03F 1/08 S ,  G06T 1/00 305 A ,  G06T 1/00 305 D

Fターム (46件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065BB17 ,  2F065CC01 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065FF01 ,  2F065GG03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ33 ,  2F065RR08 ,  2F065UU05 ,  2G051AA56 ,  2G051AA65 ,  2G051AA90 ,  2G051AB20 ,  2G051AC02 ,  2G051AC21 ,  2G051BB09 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051EA09 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EB05 ,  2G051ED04 ,  2G051ED05 ,  2G051ED07 ,  2H095BC11 ,  2H095BD04 ,  2H095BD15 ,  2H095BD25 ,  2H095BD27 ,  5B057AA03 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057DA03 ,  5B057DC33

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトマスク外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-064834   出願人：凸版印刷株式会社
• 光強度シミュレーション装置および光強度シミュレーション方法並びに光強度シミュレーションプログラムを記録した記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-132379   出願人：凸版印刷株式会社